シグマ光機株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第2484位 8件
（
2010年：第7810位 2件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第3248位 5件
（2010年：第4188位 3件）
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シグマ光機株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-242211 | 位相差測定装置 | 2011年12月 1日 | 共同出願 |
| 特開 2011-226966 | 計測方法、計測装置 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-180039 | 被検体損傷分析装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-164315 | 反射ミラー装置及び反射ミラー基体 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-144052 | 表面平坦化方法、光学素子の作製方法 | 2011年 7月28日 | |
| 特開 2011-43175 | 固定機構 | 2011年 3月 3日 | |
| 特開 2011-38539 | ステージ装置 | 2011年 2月24日 | |
| 特開 2011-38538 | スライド機構 | 2011年 2月24日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2011-242211 2011-226966 2011-180039 2011-164315 2011-144052 2011-43175 2011-38539 2011-38538
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