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(2015年:第7196位 2件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2983位 5件
(2015年:第2434位 6件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6027346 | 半導体ウェーハの製造方法 | 2016年11月16日 | |
特許 6009237 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、および、エピタキシャルシリコンウェーハ | 2016年10月19日 | |
特許 5940885 | 排ガス処理装置 | 2016年 6月29日 | |
特許 5890587 | 単結晶の製造方法およびシリコンウェーハの製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5845143 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、および、エピタキシャルシリコンウェーハ | 2016年 1月20日 | |
特許 5847435 | 研磨ヘッド、および、研磨装置 | 2016年 1月20日 |
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6027346 6009237 5940885 5890587 5845143 5847435
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