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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第13位 2107件
(2015年:第13位 2171件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第20位 1530件
(2015年:第16位 1310件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5957978 | 封入封緘装置、封入封緘方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5958062 | 裁断対象検査装置、裁断対象検査方法、裁断対象検査装置用のプログラム、および、裁断対象検査システム | 2016年 7月27日 | |
特許 5958087 | 用紙のしわ検知システム | 2016年 7月27日 | |
特許 5958180 | テキスト校正装置、テキスト校正方法及びテキスト校正プログラム | 2016年 7月27日 | |
特許 5958201 | 透明賦形フィルムの製造方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5958242 | 不燃化粧板 | 2016年 7月27日 | |
特許 5958243 | エンボス加工シミュレーション装置、エンボス加工シミュレーション方法、及びプログラム | 2016年 7月27日 | |
特許 5958244 | カラーフィルタ基板およびその製造方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5958245 | カラーフィルタ基板およびその製造方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5953661 | 透湿性フィルム及びその製造方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5953692 | システム及びプログラム | 2016年 7月20日 | |
特許 5953708 | 磁気カード | 2016年 7月20日 | |
特許 5953715 | 露光用マスクの表面イオン濃度のモニター方法およびモニターシステム、該モニターシステムを備えた露光用マスク洗浄装置、並びに露光用マスクの製造方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5953725 | インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法 | 2016年 7月20日 | |
特許 5953821 | 画像出力システムおよび画像出力方法、並びに、画像出力受付端末およびプログラム | 2016年 7月20日 |
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5957978 5958062 5958087 5958180 5958201 5958242 5958243 5958244 5958245 5953661 5953692 5953708 5953715 5953725 5953821
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
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3月5日(水) -
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