※ ログインすれば出願人(キヤノン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1位 8110件 (2016年:第1位 7670件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第2位 3926件 (2016年:第2位 4345件)
(ランキング更新日:2025年1月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2017-198532 | 形状測定装置の形状測定方法、および形状測定装置 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198557 | 画像処理装置および画像処理方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198600 | 放射線の位相変化検出方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198611 | 撮像装置、認識装置、および物品製造方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198612 | 検査装置、検査システム、および物品製造方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198613 | 屈折率計測方法、屈折率計測装置、及び光学素子の製造方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198614 | 放射線撮影装置および放射線撮影システム | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198615 | 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法。 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198671 | 画像処理装置および画像処理方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198728 | 画像表示装置 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198733 | 投射型表示装置および投射型表示システム | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198742 | 投影装置及びその制御方法、投影システム | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198751 | 画像形成装置 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198756 | 基板ステージ、露光装置、およびそれを用いたデバイス製造方法 | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-198757 | 露光装置 | 2017年11月 2日 |
8113 件中 1141-1155 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2017-198532 2017-198557 2017-198600 2017-198611 2017-198612 2017-198613 2017-198614 2017-198615 2017-198671 2017-198728 2017-198733 2017-198742 2017-198751 2017-198756 2017-198757
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月10日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
大阪府大阪市中央区北浜3丁目5-19 淀屋橋ホワイトビル2階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
バーチャルオフィス化に伴い、お客様、お取引先様には個別にご案内させていただいております。 特許・実用新案 商標 外国特許 外国商標 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング