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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第820位 35件
(
2020年:第802位 35件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第721位 30件
(
2020年:第821位 25件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6980179 | 半導体装置 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6980180 | 成膜装置および成膜方法 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6980182 | 超音波ミスト | 2021年12月15日 | |
| 特許 6980183 | 結晶性酸化物半導体膜、半導体装置 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6967213 | 結晶性酸化物半導体膜および半導体装置 | 2021年11月17日 | |
| 特許 6951714 | p型酸化物半導体及びその製造方法 | 2021年10月20日 | |
| 特許 6951715 | 半導体膜の製造方法及び半導体膜並びにドーピング用錯化合物及びドーピング方法 | 2021年10月20日 | |
| 特許 6950137 | 成膜方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6945119 | 結晶性積層構造体およびその製造方法 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945120 | 金属膜形成方法 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945121 | 結晶性半導体膜および半導体装置 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6936980 | 発光層の製造方法 | 2021年 9月22日 | |
| 特許 6936982 | 半導体装置 | 2021年 9月22日 | |
| 特許 6932904 | 半導体装置 | 2021年 9月 8日 | |
| 特許 6924458 | 積層体の製造方法および積層体 | 2021年 8月25日 |
30 件中 1-15 件を表示
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6980179 6980180 6980182 6980183 6967213 6951714 6951715 6950137 6945119 6945120 6945121 6936980 6936982 6932904 6924458
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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