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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第4080位 4件
(2010年:第1892位 13件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1390位 17件
(2010年:第1872位 10件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4848555 | 尿用防腐剤組成物 | 2011年12月28日 | |
特許 4837467 | レジスト親水化処理液組成物およびその処理方法 | 2011年12月14日 | |
特許 4829010 | 透明塩化ビニル管の補強方法 | 2011年11月30日 | 共同出願 |
特許 4806208 | ポリカルバゾール誘導体 | 2011年11月 2日 | |
特許 4776191 | フォトレジスト残渣及びポリマー残渣除去組成物、並びにそれを用いた残渣除去方法 | 2011年 9月21日 | |
特許 4771302 | 尿量の測定方法 | 2011年 9月14日 | |
特許 4758187 | フォトレジスト残渣及びポリマー残渣除去液 | 2011年 8月24日 | |
特許 4749179 | チタン、アルミニウム金属積層膜エッチング液組成物 | 2011年 8月17日 | |
特許 4744044 | 脱水剤を分散した繊維マトリックス、その製造方法およびそれを用いたクリーンアップ用カラム | 2011年 8月10日 | |
特許 4744181 | 金属選択性エッチング液 | 2011年 8月10日 | |
特許 4744091 | 光学活性ニトロ化合物およびシアノ化合物の製造方法 | 2011年 8月10日 | |
特許 4722037 | 光学活性アルコールの製法 | 2011年 7月13日 | 共同出願 |
特許 4718786 | 含窒素ヘテロ環をもつ光学活性アルコールの製造方法 | 2011年 7月 6日 | |
特許 4718762 | 半導体基板洗浄液組成物 | 2011年 7月 6日 | 共同出願 |
特許 4700171 | 液体クロマトグラフィー用親水性ODS充填剤の製造方法 | 2011年 6月15日 |
17 件中 1-15 件を表示
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4848555 4837467 4829010 4806208 4776191 4771302 4758187 4749179 4744044 4744181 4744091 4722037 4718786 4718762 4700171
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4月23日(水) -
4月23日(水) -
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4月23日(水) - 東京 千代田区
4月23日(水) -
4月23日(水) -
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4月24日(木) -
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