出願人名に「株式会社アルバ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4846543 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月28日 |
| 特許 4846603 | 配向膜の製造方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月28日 |
| 特許 4845836 | マグネトロンスパッタカソード | 株式会社アルバック | 2011年12月28日 |
| 特許 4847136 | 真空処理装置 | 株式会社アルバック | 2011年12月28日 |
| 特許 4839294 | 半導体ウエハ保持装置 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4843252 | 表面処理装置及び表面処理方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4843731 | 真空処理装置 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4842208 | ＣＶＤ装置、半導体装置、及び光電変換装置 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4842618 | アルミニウム及びアルミニウム合金の表面処理方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4843582 | リン酸リチウム焼結体の製造方法およびスパッタリングターゲット | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4839405 | コンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4842370 | 真空装置、基板搬送方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4839407 | 貼合せ基板製造装置および貼合せ基板製造方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4843572 | マルチチャンバー型真空処理装置 | 株式会社アルバック | 2011年12月21日 |
| 特許 4836921 | 表面処理方法 | 株式会社アルバック | 2011年12月14日 |
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4846543 4846603 4845836 4847136 4839294 4843252 4843731 4842208 4842618 4843582 4839405 4842370 4839407 4843572 4836921
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