| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-256707 | マスク形成方法 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 再表 2011-7652 | 減圧システム及び真空処理装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 再表 2011-7830 | 成膜装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 再表 2011-7831 | 成膜装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 再表 2011-7832 | 成膜装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 再表 2011-7834 | 成膜装置及び成膜方法 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 特開 2012-256894 | 支持部材およびキャリアと支持方法 | 株式会社アルバック | 2012年12月27日 |
| 特開 2012-253209 | ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 特開 2012-251623 | スライド弁 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 特開 2012-251624 | スライド弁 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 再表 2011-7580 | 基板処理方法 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 特開 2012-251193 | 成膜方法及び成膜装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 特開 2012-251213 | 成膜装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 特開 2012-251119 | ポーラスシリカ前駆体組成物及びその作製方法、ポーラスシリカ膜及びその作製方法、並びに半導体素子 | 株式会社アルバック | 2012年12月20日 |
| 特開 2012-248578 | プラズマエッチング装置 | 株式会社アルバック | 2012年12月13日 |
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