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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第7815位 2件 (2016年:第3099位 6件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第2490位 6件 (2016年:第4304位 3件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6250677 | シリコン含有ドーパント組成、シリコン・イオン注入中にイオン・ビーム電流及び性能を改善するために同組成を用いるシステム及び方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6190821 | 制御可能な固体噴射 | 2017年 8月30日 | |
特許 6151270 | ガラス溶融炉のガス循環の制御 | 2017年 6月21日 | |
特許 6104461 | 濃縮セレンイオン注入のための供給源および方法 | 2017年 3月29日 | |
特許 6084713 | 準大気圧保管及び送達用パッケージ | 2017年 2月22日 | |
特許 6082345 | 半導体用途のための溶射コーティング | 2017年 2月15日 |
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6250677 6190821 6151270 6104461 6084713 6082345
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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