特許ランキング - 出願人詳細情報 -

和光純薬工業株式会社

※ ログインすれば出願人(和光純薬工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第1796位　14件（2012年：第1343位　19件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第961位　30件（2012年：第1367位　19件）

（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

和光純薬工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-236027	エッチング液及びこれを用いたシリコン系基板の製造方法	2013年11月21日
特開 2013-210351	測定装置	2013年10月10日
再表 2012-17998	非水系電解液、その製造法、及び該電解液を用いた非水系電解液電池	2013年10月 3日
再表 2012-17999	非水系電解液及びそれを用いた非水系電解液電池	2013年10月 3日
再表 2011-129314	糖類の重水素化方法	2013年 7月18日
再表 2011-118496	クラミジア・トラコマティス検出用プライマー及びプローブ、並びにこれを用いたクラミジア・トラコマティスの検出方法	2013年 7月 4日
特開 2013-127474	微量検体測定用硝子セルバイアル	2013年 6月27日	共同出願
特開 2013-46617	マイコバクテリウム・イントラセルラーレ検出用プライマー及びプローブ、並びにこれを用いたマイコバクテリウム・イントラセルラーレの検出方法	2013年 3月 7日
再表 2011-43254	新規重水素化方法	2013年 3月 4日
再表 2011-27772	半導体表面用処理剤組成物及びそれを用いた半導体表面の処理方法	2013年 2月 4日
再表 2011-27773	レジスト剥離剤組成物及び当該組成物を用いたレジストの剥離方法	2013年 2月 4日
再表 2011-24988	アリルスルホネートアニオン含有イオン液体	2013年 1月31日
再表 2011-16523	ビス第４級アンモニウム塩の製造法及び新規中間体	2013年 1月17日
再表 2011-16440	環状スルホン酸エステルの製造方法及びその中間体	2013年 1月10日

14 件中 1-14 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-236027 2013-210351 2012-17998 2012-17999 2011-129314 2011-118496 2013-127474 2013-46617 2011-43254 2011-27772 2011-27773 2011-24988 2011-16523 2011-16440

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。和光純薬工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数