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直江津電子工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第7196位 2件
（
2014年：第11848位 1件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第3984位 3件
（2014年：第4898位 3件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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直江津電子工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-170616 | エピタキシャルウェーハの製造方法及びエピタキシャル成長用シリコン系基板 | 2015年 9月28日 | |
| 特開 2015-170648 | 半導体エピタキシャルウェーハの製造方法及び半導体エピタキシャルウェーハ | 2015年 9月28日 | |
| 特開 2015-157412 | 電極印刷装置及び電極印刷方法 | 2015年 9月 3日 | |
| 特開 2015-159199 | 熱電変換材料の製造装置及び製造方法 | 2015年 9月 3日 | |
| 特開 2015-23062 | 拡散ウェーハの製造方法 | 2015年 2月 2日 |
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2015-170616 2015-170648 2015-157412 2015-159199 2015-23062
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