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出願人名に「アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4758055 | マイクロエレクトロニクス基板洗浄用の安定化アルカリ性組成物 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 8月24日 |
| 特許 4753986 | 基板適合性が改善されたアンモニア不含アルカリ性マイクロエレクトロニクス洗浄組成物の使用 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 8月24日 |
| 特許 4677030 | 電気化学的腐食を阻害する非水性フォトレジスト剥離剤 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 4月27日 |
| 特許 4671575 | 超小型回路基板からナトリウム含有材料を除去するための方法および組成物 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 4月20日 |
| 特許 4633785 | ナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの洗浄組成物 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 2月16日 |
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4758055 4753986 4677030 4671575 4633785
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