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出願人名に「ファム」を含むもの

公報番号発明の名称出願人公報発行日
特許 4805664 選択 半導体ウエハーの表裏エッジ同時研磨装置及び表裏エッジ同時研磨方法 スピードファム株式会社 2011年11月 2日
特許 4808111 選択 ワーク用チャック装置 スピードファム株式会社 2011年11月 2日
特許 4799313 選択 両面研磨装置および両面研磨装置におけるワークとキャリアとの重なり検知方法 スピードファム株式会社 2011年10月26日
特許 4778130 選択 エッジポリッシング装置及びエッジポリッシング方法 スピードファム株式会社 2011年 9月21日
特許 4750948 選択 半導体ウェハ上のダマシン構造のための2ステップCMP スピードファム−アイピーイーシー コーポレイション 2011年 8月17日
特許 4711554 選択 加圧プレート用反転機構を備えた平面研磨装置 スピードファム株式会社 2011年 6月29日
特許 4698178 選択 被研磨物保持用キャリア スピードファム株式会社 2011年 6月 8日
特許 4693468 選択 研磨パッド貼着用加圧ローラを備えた両面研磨装置 スピードファム株式会社 2011年 6月 1日
特許 4630178 選択 ワーク用チャック装置 スピードファム株式会社 2011年 2月 9日
特許 4614851 選択 平面研磨装置 スピードファム株式会社 2011年 1月19日

10 件中 1-10 件を表示

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