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上村工業株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第1750位 13件 下降2010年:第1716位 15件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第1455位 16件 上昇2010年:第3422位 4件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-228517 プリント配線基板の表面処理方法及び表面処理剤 2011年11月10日
特開 2011-220944 自動滴定分析装置、自動滴定分析方法、処理液の自動分析管理システム及び処理液の自動滴定分析方法 2011年11月 4日
特開 2011-179085 電気めっき用前処理剤、電気めっきの前処理方法及び電気めっき方法 2011年 9月15日
特開 2011-140681 基板アンロード装置および基板アンロード方法 2011年 7月21日
特開 2011-140700 クロムめっき方法 2011年 7月21日
特開 2011-94242 めっき槽 2011年 5月12日
特開 2011-84779 電気銅めっき浴及び電気銅めっき方法 2011年 4月28日
特開 2011-82374 中和還元剤及びデスミア方法 2011年 4月21日
特開 2011-63843 電気銅めっき浴及びその電気銅めっき浴を用いた電気めっき方法 2011年 3月31日
特開 2011-58024 小物用表面処理装置 2011年 3月24日
特開 2011-58034 電気めっき装置及び電気めっき方法 2011年 3月24日
特開 2011-58062 触媒付与溶液並びにこれを用いた無電解めっき方法及びダイレクトプレーティング方法 2011年 3月24日
特開 2011-6183 表面処理槽のワーク搬送方法及び搬送用治具 2011年 1月13日 共同出願

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2011-228517 2011-220944 2011-179085 2011-140681 2011-140700 2011-94242 2011-84779 2011-82374 2011-63843 2011-58024 2011-58034 2011-58062 2011-6183

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