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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2936位 7件
(2012年:第1466位 17件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1233位 21件
(2012年:第1877位 12件)
(ランキング更新日:2025年6月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-234343 | 無電解銅めっき浴及び無電解銅めっき方法 | 2013年11月21日 | |
特開 2013-153233 | プリント配線基板を形成するための表面処理方法及びその表面処理方法に用いられるエッチング処理液 | 2013年 8月 8日 | |
特開 2013-91833 | 還元型無電解銀めっき液及び還元型無電解銀めっき方法 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-69836 | デスミア液及びデスミア処理方法 | 2013年 4月18日 | |
特開 2013-60668 | 電解再生処理装置 | 2013年 4月 4日 | |
特開 2013-11019 | 乾燥機 | 2013年 1月17日 | |
特開 2013-11004 | 表面処理装置およびめっき槽 | 2013年 1月17日 |
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2013-234343 2013-153233 2013-91833 2013-69836 2013-60668 2013-11019 2013-11004
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