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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第2742位 7件 (2014年:第1656位 14件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2016位 8件 (2014年:第1774位 13件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5836223 | 貼合基板の回転ズレ量計測装置、貼合基板の回転ズレ量計測方法、及び貼合基板の製造方法 | 2015年12月24日 | |
特許 5818364 | 半導体基板と絶縁膜との界面評価方法、及び半導体基板と絶縁膜との界面評価装置 | 2015年11月18日 | |
特許 5814500 | 鋳塊中炭素[C]が10ppm以下であるステンレス鋼鋳塊の製造方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5796812 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット、並びにその製造方法 | 2015年10月21日 | |
特許 5798315 | コンタクトプローブピン | 2015年10月21日 | |
特許 5767447 | Cu、In、GaおよびSeの元素を含有する粉末の製造方法、及びCu、In、GaおよびSeの元素を含有するスパッタリングターゲット | 2015年 8月19日 | |
特許 5756935 | 耐粒界腐食性および耐応力腐食割れ性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼およびその製造方法 | 2015年 7月29日 | |
特許 5750063 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット | 2015年 7月15日 | |
特許 5750064 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット | 2015年 7月15日 | |
特許 5750065 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット | 2015年 7月15日 | |
特許 5738628 | 内部欠陥検査装置および内部欠陥検査方法 | 2015年 6月24日 | |
特許 5723171 | Al基合金スパッタリングターゲット | 2015年 5月27日 | |
特許 5719651 | イオン注入量測定装置およびイオン注入量測定方法 | 2015年 5月20日 | |
特許 5681368 | Al基合金スパッタリングターゲット | 2015年 3月 4日 | |
特許 5667350 | コンタクトプローブピン | 2015年 2月12日 |
16 件中 1-15 件を表示
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5836223 5818364 5814500 5796812 5798315 5767447 5756935 5750063 5750064 5750065 5738628 5723171 5719651 5681368 5667350
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