セメス株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1065位 28件
（
2012年：第2026位 11件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1328位 19件
（
2012年：第1326位 20件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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セメス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-251548 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251547 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251549 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251550 | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-232649 | 基板処理装置及びその処理流体供給方法 | 2013年11月14日 | |
| 特開 2013-232650 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2013年11月14日 | |
| 特開 2013-214514 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年10月17日 | |
| 特開 2013-214745 | 基板処理装置及び方法 | 2013年10月17日 | |
| 特開 2013-214744 | 基板処理装置 | 2013年10月17日 | |
| 特開 2013-207303 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-98569 | ノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法 | 2013年 5月20日 | |
| 特開 2013-98570 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年 5月20日 | |
| 特開 2013-98550 | 基板処理装置及び薬液再生方法 | 2013年 5月20日 | |
| 特開 2013-98177 | 基板処理装置及びインピーダンスマッチング方法 | 2013年 5月20日 | |
| 特表 2013-516080 | ガス噴射ユニット及びこれを利用する薄膜蒸着装置及び方法 | 2013年 5月 9日 |
28 件中 1-15 件を表示
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2013-251548 2013-251547 2013-251549 2013-251550 2013-232649 2013-232650 2013-214514 2013-214745 2013-214744 2013-207303 2013-98569 2013-98570 2013-98550 2013-98177 2013-516080
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