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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第12401位 1件 (2017年:第4465位 4件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第3972位 3件 (2017年:第4057位 3件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6410256 | アダマンチル基を含む非ポリマー性反射防止組成物 | 2018年10月24日 | |
特許 6295198 | リソグラフ処理のためのスピンオン炭素組成物 | 2018年 3月14日 | |
特許 6284925 | 誘導自己組織化用のケイ素系ハードマスク層 | 2018年 2月28日 |
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6410256 6295198 6284925
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