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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「株式会社フジミ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5095228 | 研磨用組成物 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年12月12日 |
| 特許 5039346 | 溶射用粉末及び溶射皮膜 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年10月 3日 |
| 特許 5026710 | 研磨用組成物 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 9月19日 |
| 特許 5025204 | 研磨用組成物及び磁気ディスク用基板の製造方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 9月12日 |
| 特許 5026665 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 9月12日 |
| 特許 4981291 | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 7月18日 |
| 特許 4981292 | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 7月18日 |
| 特許 4981293 | 溶射皮膜 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 7月18日 |
| 特許 4981294 | 溶射皮膜 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 7月18日 |
| 特許 4974447 | 研磨用組成物及び研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 7月11日 |
| 特許 4954398 | 研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 6月13日 |
| 特許 4954462 | 窒化シリコン膜選択的研磨用組成物およびそれを用いる研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 6月13日 |
| 特許 4932148 | 酸化アルミニウム粉末の製造法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 5月16日 |
| 特許 4912598 | 溶射用粉末 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2012年 4月11日 |
| 特許 4912592 | 研磨用組成物及びその使用方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド 他 | 2012年 4月11日 |
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5095228 5039346 5026710 5025204 5026665 4981291 4981292 4981293 4981294 4974447 4954398 4954462 4932148 4912598 4912592
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