出願人名に「株式会社フジミ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5638390 | ろ過方法、およびそれを用いた研磨用組成物の精製方法ならびにろ過に用いるフィルターの再生方法およびフィルター再生装置 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年12月10日 |
| 特許 5588267 | 画像データ管理装置、画像データ管理プログラム、及び画像データ管理方法 | 株式会社フジミック | 2014年 9月10日 |
| 特許 5587620 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 9月10日 |
| 特許 5580441 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 8月27日 |
| 特許 5575735 | 研磨用組成物濃縮物 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 8月20日 |
| 特許 5564461 | 研磨用組成物 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 7月30日 |
| 特許 5544244 | 研磨用組成物および研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 7月 9日 |
| 特許 5530672 | ベーマイト粒子の製造方法及びアルミナ粒子の製造方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 6月25日 |
| 特許 5492603 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 5月14日 |
| 特許 5474400 | 半導体用濡れ剤、それを用いた研磨用組成物および研磨方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 4月16日 |
| 特許 5456535 | レジンボンド砥石 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 4月 2日 |
| 特許 5460827 | シリコンウエハの製造方法 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 4月 2日 |
| 特許 5399954 | 溶射用粉末 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 2014年 1月29日 |
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5638390 5588267 5587620 5580441 5575735 5564461 5544244 5530672 5492603 5474400 5456535 5460827 5399954
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