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出願人名に「株式会社フジミ」を含むもの

公報番号発明の名称出願人公報発行日
特許 5638390 ろ過方法、およびそれを用いた研磨用組成物の精製方法ならびにろ過に用いるフィルターの再生方法およびフィルター再生装置 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年12月10日
特許 5588267 画像データ管理装置、画像データ管理プログラム、及び画像データ管理方法 株式会社フジミック 2014年 9月10日
特許 5587620 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 9月10日
特許 5580441 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 8月27日
特許 5575735 研磨用組成物濃縮物 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 8月20日
特許 5564461 研磨用組成物 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 7月30日
特許 5544244 研磨用組成物および研磨方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 7月 9日
特許 5530672 ベーマイト粒子の製造方法及びアルミナ粒子の製造方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 6月25日
特許 5492603 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 5月14日
特許 5474400 半導体用濡れ剤、それを用いた研磨用組成物および研磨方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 4月16日
特許 5456535 レジンボンド砥石 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 4月 2日
特許 5460827 シリコンウエハの製造方法 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 4月 2日
特許 5399954 溶射用粉末 株式会社フジミインコーポレーテッド 2014年 1月29日

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5638390 5588267 5587620 5580441 5575735 5564461 5544244 5530672 5492603 5474400 5456535 5460827 5399954

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