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三菱瓦斯化学株式会社

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第155位　345件（2016年：第272位　144件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第189位　171件（2016年：第149位　236件）

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三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2016-143737	新規ポリアミン化合物及びその製造方法、並びに、及びこれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤、エポキシ樹脂組成物及びエポキシ樹脂硬化物	2017年12月28日
再表 2016-147817	ドリル孔あけ用エントリーシート、及びそれを用いたドリル孔あけ加工方法	2017年12月28日
再表 2016-147818	ドリル孔あけ用エントリーシート、及びそれを用いたドリル孔あけ加工方法	2017年12月28日
再表 2016-147998	抗菌用繊維	2017年12月28日
再表 2016-152470	ジカルボン酸化合物の精製方法	2017年12月28日
再表 2017-22822	切削加工補助潤滑材及び切削加工方法	2017年12月28日
特開 2017-226848	ポリカーボネート樹脂成形品の製造方法、およびポリカーボネート樹脂成形品	2017年12月28日
再表 2016-143536	シクロヘキサンジアミンの異性化方法	2017年12月21日
再表 2016-143537	ジアミノジシクロヘキシルメタンの異性化方法	2017年12月21日
再表 2016-143538	１，３，３−トリメチル−１−（アミノメチル）アミノシクロヘキサンの異性化方法	2017年12月21日
再表 2016-143539	ビス（アミノメチル）シクロヘキサンの異性化方法	2017年12月21日
再表 2016-140081	リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法	2017年12月14日
再表 2016-143635	化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法及び化合物又は樹脂の精製方法	2017年12月14日
特表 2017-537222	エッチング液組成物、多層膜のエッチング方法、並びに表示装置の製造方法	2017年12月14日
再表 2017-98798	光硬化性組成物及び光学材料	2017年12月 7日

355 件中 1-15 件を表示

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2016-143737 2016-147817 2016-147818 2016-147998 2016-152470 2017-22822 2017-226848 2016-143536 2016-143537 2016-143538 2016-143539 2016-140081 2016-143635 2017-537222 2017-98798

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