特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日本化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日本化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第1346位　17件（2019年：第2423位　8件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第989位　20件（2019年：第985位　20件）

（ランキング更新日：2026年10月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

日本化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6802232	ホスフィン遷移金属錯体、その製造方法及び抗がん剤	2020年12月16日
特許 6797586	電気化学発光セルの発光層用添加剤、電気化学発光セルの発光層形成用組成物及び電気化学発光セル	2020年12月 9日
特許 6779768	非晶質の水酸化鉄（ＩＩＩ）を含有する吸着剤及びその製造方法	2020年11月 4日
特許 6772401	被覆粒子	2020年10月21日
特許 6751492	リン酸コバルトリチウムの製造方法及びリン酸コバルトリチウム炭素複合体の製造方法	2020年 9月 2日
特許 6726521	光学活性基を有する置換ポリアセチレン及びその製造方法	2020年 7月22日
特許 6721490	ビスマス鉄酸化物の製造方法	2020年 7月15日
特許 6716247	放射性アンチモン、放射性ヨウ素及び放射性ルテニウムの吸着剤、当該吸着剤を用いた放射性廃液の処理方法	2020年 7月 1日
特許 6708663	放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法	2020年 6月10日
特許 6691415	セシウム及び／又はストロンチウム吸着剤の製造方法	2020年 4月28日
特許 6682613	セシウム又は／及びストロンチウム吸着剤	2020年 4月15日
特許 6682703	光学活性な２，３−ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法及び光学活性なホスフィン遷移金属錯体の製造方法	2020年 4月15日
特許 6682216	放射性物質吸着シート	2020年 4月15日
特許 6681220	油水分離材および油水分離方法	2020年 4月15日
特許 6678044	コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材	2020年 4月 8日

23 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6802232 6797586 6779768 6772401 6751492 6726521 6721490 6716247 6708663 6691415 6682613 6682703 6682216 6681220 6678044

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数