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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1094位 24件 (2010年:第1579位 17件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第24706位 0件 (2010年:第22882位 0件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-527834 | 炭素系抵抗率スイッチング材料およびその形成方法 | 2011年11月 4日 | |
特表 2011-527832 | 不揮発性メモリデバイスを製作する方法 | 2011年11月 4日 | |
特表 2011-527115 | ポジティブフォトレジストを使用するダブルパターニングにより高密度柱構造を製造する方法 | 2011年10月20日 | |
特表 2011-527114 | 三角形二次元相補的柱パターニング | 2011年10月20日 | |
特表 2011-526403 | 不揮発性記憶用の短いリセットパルス | 2011年10月 6日 | |
特表 2011-526402 | 不揮発性記憶を書込むための容量性放電方法 | 2011年10月 6日 | |
特表 2011-526401 | 不揮発性記憶における同時書込みと検証 | 2011年10月 6日 | |
特表 2011-526400 | 不揮発性記憶の電流制限を用いたリバースセット | 2011年10月 6日 | |
特表 2011-524091 | 電気的に絶縁された支柱のダイオードのための共有ダイオード要素部を有するレール積層体を備えた不揮発性メモリアレイ | 2011年 8月25日 | |
特表 2011-521455 | カーボンナノフィルム可逆抵抗スイッチング素子およびその形成方法 | 2011年 7月21日 | |
特表 2011-520249 | 不揮発性メモリに使用されるカーボンナノチューブ膜をエッチングする方法 | 2011年 7月14日 | |
特表 2011-517857 | 選択的に製造されたカーボンナノチューブ可逆抵抗スイッチング素子を使用したメモリセルおよびその形成方法 | 2011年 6月16日 | |
特表 2011-517856 | 炭素系メモリ素子を含むメモリセルおよびその形成方法 | 2011年 6月16日 | |
特表 2011-517855 | 側壁構造化スイッチャブル抵抗器セル | 2011年 6月16日 | |
特表 2011-517364 | 炭素または窒素をドープされたダイオードを備える不揮発性メモリ素子およびその製造方法 | 2011年 6月 2日 |
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2011-527834 2011-527832 2011-527115 2011-527114 2011-526403 2011-526402 2011-526401 2011-526400 2011-524091 2011-521455 2011-520249 2011-517857 2011-517856 2011-517855 2011-517364
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
10月24日(木) -
10月25日(金) - 東京 千代田区
10月25日(金) -
10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
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