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アクセリステクノロジーズインコーポレーテッド

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アクセリステクノロジーズインコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 4844893	半導体ウエハを静電チャックにクランプさせるためのシステムと方法	2011年12月28日
特許 4840607	ばねと釣合重りを用いて往復回転運動を行うウエハ走査システム	2011年12月21日
特許 4831419	イオン注入システムにおいてプラズマを発生させるための薄膜形成用マグネトロン構造	2011年12月 7日
特許 4793528	プラズマ処理装置及びガス分散プレート	2011年10月12日
特許 4793696	イオン注入システムにおいて引き出されたイオンビームの選択的プレディスパージョンのための方法及び装置	2011年10月12日
特許 4788917	プラズマアッシング装置及び終了点検出プロセス	2011年10月 5日
特許 4784851	集積回路の製造中に光学的に蓄積電荷を消去する方法及び装置	2011年10月 5日
特許 4784872	ワークピースをスキャンするための往復駆動装置	2011年10月 5日
特許 4780411	プラズマ処理装置および処理方法	2011年 9月28日
特許 4780410	抵抗層、マイクロ溝及び誘電体層を含む高機能静電クランプ	2011年 9月28日
特許 4775685	リアルタイムエッチング速度を決定するための、浅い角度での干渉方法及び装置	2011年 9月21日
特許 4771226	圧力制御された熱源及びＲＴＰ用処理を用いるための方法	2011年 9月14日
特許 4736007	半導体ウエハの放射率決定方法およびその装置	2011年 7月27日
特許 4725740	ＭＥＭＳ静電チャックの製造方法	2011年 7月13日
特許 4725873	ウエハ処理システム及びウエハ処理工程を監視する方法	2011年 7月13日

26 件中 1-15 件を表示

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4844893 4840607 4831419 4793528 4793696 4788917 4784851 4784872 4780411 4780410 4775685 4771226 4736007 4725740 4725873

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