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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5365954 | ガスの導入により、イオン注入処理の間の汚染を軽減し、表面特性を改変するためのシステム及び方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5354418 | イオンビーム走査の制御方法並びにイオン注入の均一化のためのシステム | 2013年11月27日 | |
特許 5333733 | 荷電ビームダンプ及び粒子アトラクター | 2013年11月 6日 | |
特許 5333708 | イオンビームの流れに乗った粒子の静電捕捉システム | 2013年11月 6日 | |
特許 5310977 | イオン注入機用の汚染物質を減少させる構造体及びその方法 | 2013年10月 9日 | |
特許 5304979 | イオン注入のスキャン中に使用される改良されたイオンビーム | 2013年10月 2日 | |
特許 5293953 | 加工物移送装置及びその方法 | 2013年 9月18日 | |
特許 5273437 | イオンビーム注入装置用のワークピース移送システム及びその処理方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5272242 | イオンビームを集束させるためのシステム及び方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5263601 | イオン注入を補助する装置、イオン注入システム、及びイオンビームと加工物との相対的方位を確定するための方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5257576 | イオンを加工物に注入するシステム及びその方法 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5257562 | イオン注入機のための大量ガス送出システム | 2013年 8月 7日 | |
特許 5224014 | イオンビームに対して汚染粒子を除去するためのシステム及び方法 | 2013年 7月 3日 | |
特許 5212760 | イオン注入装置用のイオン源およびそのためのリペラ | 2013年 6月19日 | |
特許 5212820 | 汚染物収集面を備えたイオン注入装置 | 2013年 6月19日 |
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5365954 5354418 5333733 5333708 5310977 5304979 5293953 5273437 5272242 5263601 5257576 5257562 5224014 5212760 5212820
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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