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三菱瓦斯化学株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第213位 201件
（
2010年：第267位 178件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第174位 207件
（2010年：第188位 176件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4635468 | 新規な酸無水物及びこれを用いるポリイミド | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4635296 | ポリフェニレンエーテルの製造方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4639567 | フォトレジスト剥離液組成物 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4632038 | 銅配線基板製造方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4626847 | コポリカーボネート樹脂 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4626768 | 培養状態を顕微鏡観察する方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4626760 | 電子写真感光体 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4623247 | 青酸合成用触媒の製造方法 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623275 | 酸素検知剤付き脱酸素剤用外装包装袋 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4622297 | 燃料バリア用ポリアミド樹脂及びそれからなる多層成形体 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4626031 | 高純度ピロメリット酸および高純度無水ピロメリット酸の製造方法 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623260 | レジスト化合物および組成物 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4622143 | ポリカーボネート樹脂の製造方法 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623254 | フォトレジスト剥離剤組成物 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4618429 | 湿式塗装ブース循環水の消泡剤 | 2011年 1月26日 |
207 件中 181-195 件を表示
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4635468 4635296 4639567 4632038 4626847 4626768 4626760 4623247 4623275 4622297 4626031 4623260 4622143 4623254 4618429
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