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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第79位 513件
(2010年:第84位 554件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第88位 379件
(2010年:第136位 228件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-151344 | CVD装置用ウェハトレイ、CVD装置用加熱ユニット及びCVD装置。 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-143089 | 陳列システムおよび陳列装置 | 2011年 7月28日 | 共同出願 |
特開 2011-143436 | 鍛造加工方法および鍛造加工装置 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144398 | 表面被覆サーメット部材の耐酸化膜形成用の処理液 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144399 | 表面被覆サーメット部材の耐酸化膜形成用の処理液 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144397 | 表面被覆サーメット部材の耐酸化膜形成用の処理液 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144422 | スパッタリング装置および半導体発光素子の製造方法 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-146109 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-146108 | 磁気記録媒体の製造方法と磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | 2011年 7月28日 | |
再表 2009-119829 | 垂直磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 | 2011年 7月28日 | |
再表 2009-119523 | 触媒及びその製造方法ならびにその用途 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-140649 | ホウ素を含有する高分子化合物およびこれを用いた有機発光素子 | 2011年 7月21日 | |
再表 2009-119469 | エポキシ化合物およびその製造方法 | 2011年 7月21日 | |
再表 2009-116609 | 樹脂組成物及びその硬化膜 | 2011年 7月21日 | |
再表 2009-119438 | 絶縁基板およびその製造方法 | 2011年 7月21日 |
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2011-151344 2011-143089 2011-143436 2011-144398 2011-144399 2011-144397 2011-144422 2011-146109 2011-146108 2009-119829 2009-119523 2011-140649 2009-119469 2009-116609 2009-119438
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5月30日(金) -
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6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
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6月6日(金) -
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