昭和電工株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第79位 513件
（
2010年：第84位 554件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第88位 379件
（2010年：第136位 228件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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昭和電工株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2009-91047 | 触媒およびその製造方法ならびにその用途 | 2011年 5月26日 | |
| 再表 2009-91043 | 触媒およびその製造方法ならびにその用途 | 2011年 5月26日 | |
| 特開 2011-101906 | 棒状ワークの切断方法 | 2011年 5月26日 | |
| 再表 2009-96420 | 凹凸パターン形成方法、およびそれを利用した磁気記録媒体の製造方法 | 2011年 5月26日 | |
| 再表 2009-91002 | 電気二重層キャパシタ | 2011年 5月26日 | |
| 再表 2009-99127 | 電子部品用素子 | 2011年 5月26日 | |
| 特開 2011-102435 | スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット材用アルミニウム材の製造方法及びスパッタリングターゲット材用アルミニウム材 | 2011年 5月26日 | |
| 再表 2009-93583 | 表示装置および発光装置 | 2011年 5月26日 | |
| 特開 2011-103472 | ＩＩＩ族窒化物半導体積層構造体 | 2011年 5月26日 | |
| 再表 2009-84477 | 皮膚外用剤および化粧料 | 2011年 5月19日 | |
| 再表 2009-84471 | 乳化皮膚外用剤および化粧料 | 2011年 5月19日 | |
| 特開 2011-98396 | ラップ定盤及びラップ加工方法 | 2011年 5月19日 | |
| 再表 2009-84520 | 安定性及び重合性の改善されたＮ−メチル−Ｎ−ビニルアセトアミドの製造方法 | 2011年 5月19日 | |
| 再表 2009-84417 | アクリル酸の製造方法 | 2011年 5月19日 | |
| 特開 2011-99034 | ポリカルボン酸樹脂及びポリカルボン酸樹脂組成物 | 2011年 5月19日 |
513 件中 316-330 件を表示
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2009-91047 2009-91043 2011-101906 2009-96420 2009-91002 2009-99127 2011-102435 2009-93583 2011-103472 2009-84477 2009-84471 2011-98396 2009-84520 2009-84417 2011-99034
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