特許ランキング - 出願人詳細情報 -

昭和電工株式会社

※ ログインすれば出願人(昭和電工株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第79位　513件（2010年：第84位　554件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第88位　379件（2010年：第136位　228件）

（ランキング更新日：2024年12月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

昭和電工株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
再表 2009-75252	エポキシ樹脂硬化剤およびその製造方法ならびにエポキシ樹脂組成物	2011年 4月28日
特開 2011-86916	発光ダイオード、発光ダイオードランプ及び照明装置	2011年 4月28日
特開 2011-85364	エバポレータ	2011年 4月28日
特開 2011-86356	磁気記録媒体及び磁気記録再生装置	2011年 4月28日
特開 2011-86917	発光ダイオード、発光ダイオードランプ及び照明装置	2011年 4月28日
特開 2011-86856	発光ダイオード素子、発光ダイオードランプおよび照明装置	2011年 4月28日
特開 2011-86855	半導体発光素子の製造方法	2011年 4月28日
特開 2011-86636	二次電池用集電体形成用のペースト、二次電池用集電体およびその製造方法、二次電池用電極、二次電池	2011年 4月28日
再表 2009-78309	発泡性樹脂組成物及び発泡体	2011年 4月28日	共同出願
特開 2011-86350	磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置	2011年 4月28日	共同出願
特開 2011-82546	化合物半導体素子ウェハーの製造方法	2011年 4月21日
特開 2011-79539	ワーク整列装置	2011年 4月21日
再表 2009-72439	磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置	2011年 4月21日
特開 2011-82570	ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の製造方法	2011年 4月21日
特開 2011-82457	基板の処理方法及び基板保持装置	2011年 4月21日

513 件中 361-375 件を表示

... 25

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2009-75252 2011-86916 2011-85364 2011-86356 2011-86917 2011-86856 2011-86855 2011-86636 2009-78309 2011-86350 2011-82546 2011-79539 2009-72439 2011-82570 2011-82457

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。昭和電工株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数