昭和電工株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第114位 406件
（
2011年：第79位 513件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第79位 478件
（
2011年：第88位 379件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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昭和電工株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4959763 | ＳｉＣエピタキシャルウェハ及びその製造方法 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4960727 | 化粧板 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4964430 | 半導体素子形成用基板及びエピタキシャルウェーハ並びにそれらを利用した半導体素子及び半導体デバイス | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4963839 | 発光装置 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4963807 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4956733 | 多孔体及びその製造方法並びにその用途 | 2012年 6月20日 | 共同出願 |
| 特許 4954546 | 金属管の製造装置 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4954694 | 湿式研磨方法および湿式研磨装置 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4955276 | ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート組成物、その製造方法及びポリマーの製造方法 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4955518 | ジチオカーボネート構造及び含硫黄アリルカーボネートを有するラジカル重合性化合物 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4954582 | 高分子発光材料、有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4954581 | 高分子発光材料、有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4959203 | 発光素子及びその製造方法、並びにランプ | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4959184 | 窒化物系半導体発光素子の製造方法 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4955000 | 固体電解コンデンサ | 2012年 6月20日 |
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4959763 4960727 4964430 4963839 4963807 4956733 4954546 4954694 4955276 4955518 4954582 4954581 4959203 4959184 4955000
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