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三井金属鉱業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第503位 71件
（
2010年：第294位 156件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第304位 113件
（2010年：第167位 194件）
（ランキング更新日：2025年3月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三井金属鉱業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4763515 | 耐熱性マグネシウム合金押出し材及び鍛造品並びにそれらの製造方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4756652 | ドロップ状銅粉、ドロップ状銅粉の製造方法および導電性ペースト | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4756630 | （１００）結晶面の円筒状フッ化物単結晶の加工方法 | 2011年 8月24日 | 共同出願 |
| 特許 4756996 | セリウム系研摩材 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4756637 | 硫酸系銅電解液及び該硫酸系銅電解液を用いて得られた電解銅箔 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4754402 | キャリア箔付銅箔、キャリア箔付銅箔の製造方法、キャリア箔付表面処理銅箔及びそのキャリア箔付表面処理銅箔を用いた銅張積層板 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4756628 | 水系ＩＴＯインク | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4756104 | 緑色蛍光体 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4755728 | 有機ＥＬ素子に用いられるアノード構造体およびその製造方法ならびに有機ＥＬ素子 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4751100 | 浮遊選鉱による銅の回収方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4750923 | スパッタリングターゲットの製造方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4749567 | 溶湯濾過槽 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4748760 | リチウム一次電池用正極活物質およびその製造方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4750214 | 研摩スラリー及びその研摩方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4750924 | スパッタリングターゲットの製造方法 | 2011年 8月17日 |
111 件中 31-45 件を表示
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4763515 4756652 4756630 4756996 4756637 4754402 4756628 4756104 4755728 4751100 4750923 4749567 4748760 4750214 4750924
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