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三井金属鉱業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第496位 78件
（
2012年：第461位 83件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第420位 85件
（2012年：第398位 91件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三井金属鉱業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5249642 | 超微細金属線状体及びその製造方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249560 | ＳｎＯ２系スパッタリングターゲット | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249963 | セラミックス−金属複合材料からなるスパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249600 | ピンホールの占有割合を調整したスパッタリングターゲットおよびその製造方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5240938 | Ｓｎ−Ｓｂ系半田合金 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5237542 | 酸化セリウム系研摩材 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5237827 | 酸化インジウム系ターゲット | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5227363 | 排ガス浄化用触媒 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5215631 | 表面処理銅箔 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5209877 | 硫化銅粉、硫化銅粉の製造方法及びその硫化銅粉を用いて得られる帯電防止機材 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5204460 | 磁気記録膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5204913 | 層構造を有するリチウム金属複合酸化物 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5199091 | ＳｉＣ質焼結体及びその製造方法 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5199151 | セラミックス焼成体及びその製造方法 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5199023 | 酸化スズ粉末 | 2013年 5月15日 |
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5249642 5249560 5249963 5249600 5240938 5237542 5237827 5227363 5215631 5209877 5204460 5204913 5199091 5199151 5199023
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