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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第252位 169件
(2013年:第216位 227件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第209位 194件
(2013年:第243位 163件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2014-508423 | 金属および金属酸化物膜のエッチング方法 | 2014年 4月 3日 | |
特表 2014-508403 | 側壁誘電体を酸化させる高静電容量用途向けのパルス法 | 2014年 4月 3日 | |
特開 2014-55358 | マスク支持体、マスクアセンブリ、及びマスク支持体とマスクを含むアセンブリ | 2014年 3月27日 | |
特表 2014-507797 | ラジカル蒸気CVD | 2014年 3月27日 | |
特表 2014-507565 | 被覆装置および被覆方法 | 2014年 3月27日 | |
特開 2014-57073 | 副処理平面を使用する急速伝導冷却 | 2014年 3月27日 | |
特開 2014-53309 | プラズマチャンバ内の調整可能接地面 | 2014年 3月20日 | |
特開 2014-53645 | 軸対称及び均一熱プロファイルの真空チャック型ヒーター | 2014年 3月20日 | |
特表 2014-507073 | 遠隔励起式のフッ素および水蒸気エッチング | 2014年 3月20日 | |
特表 2014-507065 | シリコンウエハのシリコン貫通ビアの製造 | 2014年 3月20日 | |
特表 2014-507064 | 二重電球ランプヘッド制御方法 | 2014年 3月20日 | |
特表 2014-506723 | リチウムイオンセル設計装置および方法 | 2014年 3月17日 | |
特表 2014-506396 | PVDにより形成される窒化アルミニウム緩衝層を有する窒化ガリウムベースのLEDの製造 | 2014年 3月13日 | |
特表 2014-506397 | 2段階での均一なドライエッチング | 2014年 3月13日 | |
特開 2014-42056 | 極紫外線(EUV)フォトマスクのエッチング方法 | 2014年 3月 6日 |
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2014-508423 2014-508403 2014-55358 2014-507797 2014-507565 2014-57073 2014-53309 2014-53645 2014-507073 2014-507065 2014-507064 2014-506723 2014-506396 2014-506397 2014-42056
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7月17日(木) -
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7月18日(金) -
7月15日(火) - 東京 品川区
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
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7月24日(木) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
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