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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第252位 169件
(2013年:第216位 227件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第209位 194件
(2013年:第243位 163件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2014-535001 | 直線型大面積プラズマリアクタ内における均一プロセスのためのガス送出及び分配 | 2014年12月25日 | |
特表 2014-535164 | レーザ処理システム内の粒子制御 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-239251 | カセットを位置合わせするための方法と装置 | 2014年12月18日 | |
特表 2014-534614 | 温度制御付き静電チャック | 2014年12月18日 | |
特表 2014-534341 | PVDアレイ用の多方向レーストラック回転カソード | 2014年12月18日 | |
特表 2014-534457 | レーザ処理設備においてスペックルを低減させるための装置および方法 | 2014年12月18日 | |
特表 2014-533611 | 改善された摩擦測定を使用する基板研磨検出のためのシステムおよび方法 | 2014年12月15日 | |
特表 2014-533610 | 改善された摩擦測定を使用する基板研磨終点検出のためのシステムおよび方法 | 2014年12月15日 | |
特表 2014-533437 | 層間多結晶シリコン誘電体キャップおよびその形成方法 | 2014年12月11日 | |
特表 2014-532987 | 半導体処理におけるエッジリングの熱管理 | 2014年12月 8日 | |
特表 2014-532988 | 低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ | 2014年12月 8日 | |
特表 2014-532989 | チャンバ壁温度制御を備えたプラズマリアクタ | 2014年12月 8日 | |
特表 2014-532204 | タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム | 2014年12月 4日 | |
特表 2014-531510 | 誘電体材料の堆積速度および成長動態を高める多重周波数スパッタリング | 2014年11月27日 | |
特表 2014-531759 | 薄いガラス基板用のキャリアおよびその使用方法 | 2014年11月27日 |
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2014-535001 2014-535164 2014-239251 2014-534614 2014-534341 2014-534457 2014-533611 2014-533610 2014-533437 2014-532987 2014-532988 2014-532989 2014-532204 2014-531510 2014-531759
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7月17日(木) -
7月18日(金) - 東京 千代田区
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
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