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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2014-505996	ＵＶチャンバ内におけるウエハ処理プロファイルを調節する方法および装置	2014年 3月 6日
特開 2014-42056	極紫外線（ＥＵＶ）フォトマスクのエッチング方法	2014年 3月 6日
特開 2014-42060	基板を処理する方法及び装置及びそれらのためのセラミック組成物	2014年 3月 6日
特表 2014-505363	マイクロ波プラズマを用いた薄膜堆積	2014年 2月27日
特表 2014-505356	耐集積損傷性を改善するインシトゥ低誘電率キャッピング	2014年 2月27日
特開 2014-39050	パルス化したサンプルバイアスを用いる、半導体構造をエッチングするためのパルス化プラズマシステム	2014年 2月27日
特表 2014-504041	多数の光ヘッドからのスペクトルの収集	2014年 2月13日
特表 2014-503611	チャンバコンポーネントを接合するために使用される接着材料	2014年 2月13日
特表 2014-503991	接着層の厚さを減少させ、薄い超低誘電率誘電体フィルムの耐損傷性を改良する方法	2014年 2月13日
特開 2014-27294	シリコン化合物によるシリコン含有層の堆積	2014年 2月 6日
特開 2014-13905	基板上に酸化ケイ素層を形成する方法	2014年 1月23日
特表 2014-502038	薄膜電極および薄膜スタックを堆積させる方法	2014年 1月23日
特開 2014-13899	フォトマスクプラズマエッチングの為の方法および装置	2014年 1月23日
特表 2014-501455	圧力制御された研磨プラテン	2014年 1月20日
特表 2014-501030	ロードロックチャンバ、基板処理システム、および通気方法	2014年 1月16日

169 件中 151-165 件を表示

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2014-505996 2014-42056 2014-42060 2014-505363 2014-505356 2014-39050 2014-504041 2014-503611 2014-503991 2014-27294 2014-13905 2014-502038 2014-13899 2014-501455 2014-501030

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