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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2014年 出願公開件数ランキング    第252位 169件 下降2013年:第216位 227件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第209位 194件 上昇2013年:第243位 163件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-222657 RF電力供給のための時間分解チューニングスキームを利用したパルス化プラズマ処理の方法及び装置 2014年11月27日
特表 2014-529509 シリコン太陽電池の製造のための高速レーザ走査システム 2014年11月13日
特表 2014-529888 チャンバ内の基板を感知するための方法および装置 2014年11月13日
特表 2014-529683 エッジ除外マスクシールディングの保護 2014年11月13日
特開 2014-209640 酸化物形成方法 2014年11月 6日
特開 2014-209641 薄膜均一性を制御する方法およびそれにより生産された製品 2014年11月 6日
特開 2014-208401 渦電流監視用研磨パッド 2014年11月 6日
特開 2014-209643 渦電流監視システムと光学監視システムとを有する研磨制御方法及び装置 2014年11月 6日
特開 2014-209404 高エネルギーイオンを使用する磁気薄膜のパターン化 2014年11月 6日
特表 2014-529197 静電チャック 2014年10月30日
特表 2014-529011 長方形基板に層を堆積させるためのマスク構造体、装置および方法 2014年10月30日
特表 2014-528606 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 2014年10月27日
特表 2014-528162 結晶化法 2014年10月23日
特表 2014-528155 フリップエッジシャドーフレーム 2014年10月23日
特開 2014-196563 基板処理チャンバ用処理キット 2014年10月16日

169 件中 16-30 件を表示

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2014-222657 2014-529509 2014-529888 2014-529683 2014-209640 2014-209641 2014-208401 2014-209643 2014-209404 2014-529197 2014-529011 2014-528606 2014-528162 2014-528155 2014-196563

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