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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2014-523109	レーザによる基板のダイシング及びプラズマエッチング用の多層マスク	2014年 9月 8日
特表 2014-522743	マルチリンケージロボットを有するシステム及びマルチリンケージロボットにおいて位置アライメント及び回転アライメントを補正するための方法	2014年 9月 8日
特表 2014-522742	電子デバイス製造において基板を輸送するように構成されるロボットシステム、装置及び方法	2014年 9月 8日
特表 2014-523115	プラズマエッチングを伴うハイブリッドガルバニックレーザスクライビングプロセスを用いたウェハダイシング	2014年 9月 8日
特表 2014-523143	浸漬性能の改善のためのコーティングを有する基板支持エッジリング	2014年 9月 8日
特表 2014-523106	レーザパターニングのための一体化された光および熱遮蔽層を有する薄膜構造およびデバイス	2014年 9月 8日
特表 2014-522572	静電チャックの窒化アルミ誘電体の修復方法	2014年 9月 4日
特開 2014-159637	イットリウム含有保護皮膜による半導体処理装置の被覆方法	2014年 9月 4日
特表 2014-522579	ホットワイヤ化学気相堆積（ＨＷＣＶＤ）チャンバを使用して基板の表面を洗浄する方法	2014年 9月 4日
特表 2014-522565	プロセスチャンバ内の複数区域ヒータの温度を制御するための方法および装置	2014年 9月 4日
特表 2014-522573	誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）リアクタ用動的イオンラジカルシーブ及びイオンラジカルアパーチャ	2014年 9月 4日
特表 2014-522574	基板を支持および制御する装置および方法	2014年 9月 4日
特表 2014-521829	コーティングプロセスにおいてフレキシブル基板をパッシベーションするためのデバイスおよび方法	2014年 8月28日
特表 2014-521210	ＵＶ支援型の光化学堆積によるプラズマ損傷を受けた低誘電率膜の誘電体の復旧	2014年 8月25日
特表 2014-521213	静電チャックアセンブリ	2014年 8月25日

169 件中 61-75 件を表示

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2014-523109 2014-522743 2014-522742 2014-523115 2014-523143 2014-523106 2014-522572 2014-159637 2014-522579 2014-522565 2014-522573 2014-522574 2014-521829 2014-521210 2014-521213

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