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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第252位 169件
（
2013年：第216位 227件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第209位 194件
（
2013年：第243位 163件）
（ランキング更新日：2025年7月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2014-514744 | 化学気相堆積チャンバ用のライナアセンブリ | 2014年 6月19日 | |
| 特表 2014-514734 | ランプアセンブリを使用した基板下面のオフアングル加熱 | 2014年 6月19日 | |
| 特表 2014-514729 | 酸化ケイ素多重層を使用したパターンローディングの低減 | 2014年 6月19日 | |
| 特表 2014-514450 | 測定ユニットを備えた蒸発システム | 2014年 6月19日 | |
| 特表 2014-514780 | 酸化銅除去技法 | 2014年 6月19日 | |
| 特開 2014-99598 | 研磨パッドコンディショナ用ダンパ | 2014年 5月29日 | |
| 特表 2014-513435 | 金属残留物または金属ピラーの渦電流モニタリング | 2014年 5月29日 | |
| 特表 2014-513434 | 除去プロファイルを生成するための研磨パラメータの選択 | 2014年 5月29日 | |
| 特表 2014-513208 | 熱ワイヤを使用して被覆を行うための装置および方法 | 2014年 5月29日 | |
| 特表 2014-513203 | 原子層堆積のための装置及び方法 | 2014年 5月29日 | |
| 特開 2014-96585 | 細長い領域のモニタリングを用いるインシトゥモニタシステム | 2014年 5月22日 | |
| 特表 2014-512693 | 環境の影響の変動を伴う基準スペクトルの構築 | 2014年 5月22日 | |
| 特表 2014-512690 | 終点検出のためのスペクトル特徴の適応的追跡 | 2014年 5月22日 | |
| 特表 2014-512687 | 低温酸化ケイ素変換 | 2014年 5月22日 | |
| 特表 2014-512458 | 多レベルシャワーヘッド設計 | 2014年 5月22日 |
169 件中 91-105 件を表示
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2014-514744 2014-514734 2014-514729 2014-514450 2014-514780 2014-99598 2014-513435 2014-513434 2014-513208 2014-513203 2014-96585 2014-512693 2014-512690 2014-512687 2014-512458
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