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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第252位 169件
(2013年:第216位 227件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第209位 194件
(2013年:第243位 163件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2014-512458 | 多レベルシャワーヘッド設計 | 2014年 5月22日 | |
特表 2014-512672 | 共有ポンプを備えた真空チャンバ | 2014年 5月22日 | |
特表 2014-512102 | UV処理、化学処理、および堆積のための装置および方法 | 2014年 5月19日 | |
特表 2014-511569 | ウエハレベルのシンギュレーションのための方法およびシステム | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-90177 | プラズマチャンバーにおいて半導体ワークピースを取り巻く導電性カラー | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-88310 | 半導体用途のための結晶化処理 | 2014年 5月15日 | |
特表 2014-511572 | マルチゾーンペデスタルヒータ用の方法および装置 | 2014年 5月15日 | |
特表 2014-511577 | コンタクト洗浄のための方法 | 2014年 5月15日 | |
特表 2014-511575 | デュアルロードロック構成内の除害及びストリップ処理チャンバ | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-86733 | 選択的スペクトルモニタリングを使用した終点決定 | 2014年 5月12日 | |
特開 2014-84272 | 銅基板上のカーボンナノチューブ成長 | 2014年 5月12日 | |
特開 2014-86579 | 真空チャンバ用反射部材 | 2014年 5月12日 | |
特開 2014-86578 | オリエンタチャンバ | 2014年 5月12日 | |
特表 2014-511030 | デュアルプラズマ源式のランプ加熱プラズマチャンバ | 2014年 5月 1日 | |
特開 2014-78734 | ゲート電極構造及び製造方法 | 2014年 5月 1日 |
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2014-512458 2014-512672 2014-512102 2014-511569 2014-90177 2014-88310 2014-511572 2014-511577 2014-511575 2014-86733 2014-84272 2014-86579 2014-86578 2014-511030 2014-78734
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【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
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