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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第270位 169件 (2012年:第291位 145件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第326位 122件 (2012年:第365位 100件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-56869 | 側鎖置換エチレンジエステル型酸二無水物、その製造法及びポリイミド | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-56849 | 光学活性エポキシ化合物の製造方法 | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-56848 | 光学活性アルコール化合物の製造方法 | 2013年 3月28日 | |
再表 2011-52613 | 化粧料及び皮膚外用剤、並びに医療用機器 | 2013年 3月21日 | |
再表 2011-49213 | 縮環へテロ環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 | 2013年 3月14日 | |
再表 2011-49078 | ケイ素化合物を用いる膜形成組成物 | 2013年 3月14日 | |
特開 2013-40184 | イソキサゾリン置換ベンズアミド化合物及び有害生物防除剤 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-40249 | ディスプレイ基板用樹脂組成物 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-35876 | 低粘度農薬組成物 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-35769 | 農業用水面施用粒状組成物 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-32327 | 2以上のトリアジントリオン構造を有する化合物及びリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物 | 2013年 2月14日 | |
再表 2011-34118 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物および配向フィルム | 2013年 2月14日 | |
特開 2013-33276 | 硫黄原子を含有するレジスト下層膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2013年 2月14日 | |
再表 2011-33965 | スルホンアミド基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 | 2013年 2月14日 | |
再表 2011-30822 | ホスホン酸金属塩の製造方法及びホスホン酸金属塩を含む熱可塑性樹脂組成物 | 2013年 2月 7日 |
169 件中 136-150 件を表示
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2013-56869 2013-56849 2013-56848 2011-52613 2011-49213 2011-49078 2013-40184 2013-40249 2013-35876 2013-35769 2013-32327 2011-34118 2013-33276 2011-33965 2011-30822
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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