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日産化学工業株式会社

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  2026年 出願公開件数ランキング    第538位 16件 下降2025年:第416位 73件)

  2026年 特許取得件数ランキング    第199位 47件 下降2025年:第196位 154件)

(ランキング更新日:2026年4月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2026-65744 高濃度かつ高安定性の中空シリカオルガノゾル及びその製造方法 2026年 4月15日
特開 2026-63133 複素環化合物を含むレジスト下層膜形成組成物 2026年 4月10日
特開 2026-60962 IL-11アンチセンスオリゴヌクレオチド 2026年 4月 9日
特開 2026-59488 ピラゾール化合物及び有害生物防除剤 2026年 4月 7日
特開 2026-53526 レジスト下層膜形成用組成物 2026年 3月25日
特開 2026-51908 スルホン酸基を有するポリシラン誘導体及び固体高分子形燃料電池 2026年 3月23日
特開 2026-43023 ポリマーの製造方法 2026年 3月11日
特開 2026-41942 レジスト下層膜形成組成物 2026年 3月10日
特開 2026-34605 配向膜形成材料、配向膜、及び高分子分散型液晶素子 2026年 2月27日
特開 2026-31662 アルミニウム原子含有中空シリカゾル及びその製造方法 2026年 2月24日
特開 2026-31663 アルミニウム原子含有中空シリカゾル及びその製造方法 2026年 2月24日
特開 2026-21984 耐寒セメント組成物 2026年 2月12日
特開 2026-13458 金属の吸着剤および金属の選択的分離回収方法 2026年 1月29日
特開 2026-10179 レジスト下層膜形成組成物 2026年 1月21日
特開 2026-10180 レジスト下層膜形成組成物 2026年 1月21日

20 件中 1-15 件を表示

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2026-65744 2026-63133 2026-60962 2026-59488 2026-53526 2026-51908 2026-43023 2026-41942 2026-34605 2026-31662 2026-31663 2026-21984 2026-13458 2026-10179 2026-10180

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