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日産化学工業株式会社

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日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2026-166307	表面に親水性基を有するシリカを含有するシリカゾル、絶縁性樹脂組成物、及び絶縁性被覆導線	2026年10月14日
特開 2026-164974	アリールテトラヒドロピリジン化合物及び有害生物防除剤	2026年10月 9日
特開 2026-164710	アリールテトラヒドロピリジン化合物及び有害生物防除剤	2026年10月 9日
特開 2026-163751	検出装置、検出方法、および制御プログラム	2026年10月 9日
特開 2026-155061	洗浄・分注用途における低細胞付着容器	2026年10月 6日
特開 2026-153654	ピラゾール化合物及び有害生物防除剤	2026年10月 2日
特開 2026-152955	半導体製造用ウエハ端部保護膜形成組成物	2026年 9月29日
特開 2026-149718	接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び加工された基板の製造方法	2026年 9月25日
特開 2026-145919	新規なフリーデル・クラフツ型高分子化合物、新規なフリーデル・クラフツ型高分子化合物から誘導されたアイオノマー、該アイオノマーを含む触媒組成物並びに該アイオノマーを用いた固体高分子形燃料電池及び水電解装置	2026年 9月15日
特開 2026-145228	シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物	2026年 9月10日
特開 2026-140805	切断可能なＤＮＡコード化ライブラリ	2026年 9月 3日
特開 2026-140846	アリール基で封止された側鎖含有ポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物	2026年 9月 3日
特開 2026-135588	レジスト下層膜形成用組成物	2026年 8月25日
特開 2026-136341	シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物	2026年 8月25日
特開 2026-131055	脂質結合オリゴヌクレオチド又はその複合体	2026年 8月14日

59 件中 1-15 件を表示

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2026-166307 2026-164974 2026-164710 2026-163751 2026-155061 2026-153654 2026-152955 2026-149718 2026-145919 2026-145228 2026-140805 2026-140846 2026-135588 2026-136341 2026-131055

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