ホーム > 特許ランキング > 日産化学工業株式会社 > 2026年の出願公開
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第534位 13件
(
2025年:第416位 73件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第198位 39件
(
2025年:第196位 154件)
(ランキング更新日:2026年4月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-53526 | レジスト下層膜形成用組成物 | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-51908 | スルホン酸基を有するポリシラン誘導体及び固体高分子形燃料電池 | 2026年 3月23日 | |
| 特開 2026-43023 | ポリマーの製造方法 | 2026年 3月11日 | |
| 特開 2026-41942 | レジスト下層膜形成組成物 | 2026年 3月10日 | |
| 特開 2026-34605 | 配向膜形成材料、配向膜、及び高分子分散型液晶素子 | 2026年 2月27日 | |
| 特開 2026-31662 | アルミニウム原子含有中空シリカゾル及びその製造方法 | 2026年 2月24日 | |
| 特開 2026-31663 | アルミニウム原子含有中空シリカゾル及びその製造方法 | 2026年 2月24日 | |
| 特開 2026-21984 | 耐寒セメント組成物 | 2026年 2月12日 | |
| 特開 2026-13458 | 金属の吸着剤および金属の選択的分離回収方法 | 2026年 1月29日 | |
| 特開 2026-10179 | レジスト下層膜形成組成物 | 2026年 1月21日 | |
| 特開 2026-10180 | レジスト下層膜形成組成物 | 2026年 1月21日 | |
| 特開 2026-4147 | 波長変換膜形成用組成物及びその耐光性向上方法 | 2026年 1月14日 | |
| 特開 2026-4184 | アリールテトラヒドロピリダジン化合物及び有害生物防除剤 | 2026年 1月14日 | |
| 特開 2026-4436 | ATN1のアンチセンスオリゴヌクレオチド | 2026年 1月14日 | |
| 特開 2026-4523 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2026年 1月14日 |
16 件中 1-15 件を表示
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2026-53526 2026-51908 2026-43023 2026-41942 2026-34605 2026-31662 2026-31663 2026-21984 2026-13458 2026-10179 2026-10180 2026-4147 2026-4184 2026-4436 2026-4523
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