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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第225位 210件 (2012年:第237位 185件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第151位 273件 (2012年:第163位 233件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-182814 | X線照射源 | 2013年 9月12日 | |
再表 2012-14722 | 基板加工方法 | 2013年 9月12日 | |
再表 2012-14724 | 基板加工方法 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-178121 | 距離センサ及び距離画像センサ | 2013年 9月 9日 | |
再表 2012-8584 | 抗体の作製方法及び抗体 | 2013年 9月 9日 | |
特開 2013-175440 | イオン検出装置 | 2013年 9月 5日 | |
特開 2013-170881 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-169280 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-170880 | X線分析装置 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-169470 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-171120 | 表面プラズモンデバイス | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-169281 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
再表 2011-162261 | 固浸レンズを吸着する吸着器を用いる半導体デバイスの観察方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-160721 | 電子線照射装置及び電子線透過ユニット | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-157449 | 半導体デバイスの製造方法 | 2013年 8月15日 |
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2013-182814 2012-14722 2012-14724 2013-178121 2012-8584 2013-175440 2013-170881 2013-169280 2013-170880 2013-169470 2013-171120 2013-169281 2011-162261 2013-160721 2013-157449
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2月4日(火) - 東京 港区
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2月5日(水) -
2月5日(水) -
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2月6日(木) - 東京 港区
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2月7日(金) - 東京 港区
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2月7日(金) -
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