ホーム > 特許ランキング > 浜松ホトニクス株式会社 > 2013年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(浜松ホトニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第225位 210件
(2012年:第237位 185件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第151位 273件
(2012年:第163位 233件)
(ランキング更新日:2025年2月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-182814 | X線照射源 | 2013年 9月12日 | |
再表 2012-14722 | 基板加工方法 | 2013年 9月12日 | |
再表 2012-14724 | 基板加工方法 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-178121 | 距離センサ及び距離画像センサ | 2013年 9月 9日 | |
再表 2012-8584 | 抗体の作製方法及び抗体 | 2013年 9月 9日 | |
特開 2013-175440 | イオン検出装置 | 2013年 9月 5日 | |
特開 2013-170881 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-169280 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-170880 | X線分析装置 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-169470 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-171120 | 表面プラズモンデバイス | 2013年 9月 2日 | |
特開 2013-169281 | 濃度測定装置および濃度測定方法 | 2013年 9月 2日 | |
再表 2011-162261 | 固浸レンズを吸着する吸着器を用いる半導体デバイスの観察方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-160721 | 電子線照射装置及び電子線透過ユニット | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-157449 | 半導体デバイスの製造方法 | 2013年 8月15日 |
210 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2013-182814 2012-14722 2012-14724 2013-178121 2012-8584 2013-175440 2013-170881 2013-169280 2013-170880 2013-169470 2013-171120 2013-169281 2011-162261 2013-160721 2013-157449
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。浜松ホトニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月18日(火) -
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
〒104-0061 東京都中央区銀座1-8-2 銀座プルミエビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒063-0811 札幌市西区琴似1条4丁目3-18紀伊国屋ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング