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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第34位 1161件
(2012年:第31位 1203件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第34位 975件
(2012年:第40位 784件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-93543 | 光電変換装置 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-93434 | 半導体基板の解析方法 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-93319 | 蓄電装置 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-93316 | 二次粒子の作製方法と蓄電装置の電極の作製方法 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-89875 | 半導体装置およびその作製方法 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-88757 | 反射防止構造体 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-89832 | シリコン基板の加工方法 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-89646 | 半導体装置の作製方法及び半導体装置 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-89613 | 半導体装置およびその作製方法 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-82606 | グラフェン、電極及び蓄電装置の作製方法 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-82742 | 化合物 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-84752 | 半導体装置およびその作製方法 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-84735 | 酸化物半導体膜及び半導体装置 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-84969 | 半導体装置、モジュール、及び電子機器 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-84964 | 半導体装置の作製方法 | 2013年 5月 9日 |
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2013-93543 2013-93434 2013-93319 2013-93316 2013-89875 2013-88757 2013-89832 2013-89646 2013-89613 2013-82606 2013-82742 2013-84752 2013-84735 2013-84969 2013-84964
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