ホーム > 特許ランキング > 株式会社半導体エネルギー研究所 > 2011年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社半導体エネルギー研究所)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第41位 890件 (2010年:第95位 498件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第45位 658件 (2010年:第55位 464件)
(ランキング更新日:2025年1月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4827325 | 半導体装置の作製方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4827683 | 発光素子、発光装置並びに電子機器 | 2011年11月30日 | |
特許 4825181 | 薄膜トランジスタの作製方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4827343 | 液晶表示装置及び液晶表示装置の作製方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4827290 | 薄膜形成装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4824521 | 照明装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4828659 | 表示装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4827589 | 湿度検出装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4827618 | アンテナの作製方法、半導体装置の作製方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4827305 | 半導体装置の作製方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4827796 | センサ付き表示装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4827276 | レーザー照射装置、レーザー照射方法及び半導体装置の作製方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4823705 | 薄膜集積回路の作製方法及びICラベルの作製方法 | 2011年11月24日 | |
特許 4823746 | 電子機器 | 2011年11月24日 | |
特許 4824042 | ボール | 2011年11月24日 |
658 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4827325 4827683 4825181 4827343 4827290 4824521 4828659 4827589 4827618 4827305 4827796 4827276 4823705 4823746 4824042
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社半導体エネルギー研究所の知財の動向チェックに便利です。
1月20日(月) -
1月20日(月) - 大阪 大阪市
1月21日(火) -
1月21日(火) -
1月21日(火) - 東京 港区
1月21日(火) - 大阪 大阪市
1月22日(水) - 東京 港区
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月22日(水) - 大阪 大阪市
1月22日(水) - 東京 千代田区
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) - 東京 港区
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月24日(金) - 東京 港区
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) -
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) - 大阪 大阪市
1月24日(金) - 神奈川 川崎市
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月20日(月) -
1月27日(月) - 東京 港区
1月28日(火) - 東京 港区
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) - 大阪 大阪市
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月27日(月) - 東京 港区
東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー 22階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区新宿5-10-1 第2スカイビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング