ホーム > 特許ランキング > 株式会社半導体エネルギー研究所 > 2011年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社半導体エネルギー研究所)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第41位 890件
(2010年:第95位 498件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第45位 658件
(2010年:第55位 464件)
(ランキング更新日:2025年6月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4809600 | 半導体装置の作製方法 | 2011年11月 9日 | |
特許 4809545 | 半導体不揮発性メモリ及び電子機器 | 2011年11月 9日 | |
特許 4809715 | 光電変換装置及びその作製方法、並びに半導体装置 | 2011年11月 9日 | |
特許 4813031 | 発光素子およびその作製方法、並びにその発光素子を用いた発光装置、照明機器 | 2011年11月 9日 | |
特許 4801785 | 半導体装置の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4801346 | 発光装置の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4801407 | 表示装置の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4799176 | 発光装置の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4801249 | 半導体装置の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4801440 | 半導体装置の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4801790 | 半導体装置 | 2011年10月26日 | |
特許 4801432 | 集束イオンビーム加工方法およびそれを用いた透過型電子顕微鏡試料の作製方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4801600 | 成膜方法および成膜装置 | 2011年10月26日 | |
特許 4801429 | 発光素子、及び該発光素子を有する発光装置 | 2011年10月26日 | |
特許 4801289 | マイクロミラーデバイス、プロジェクター、プリンター、及び複写機 | 2011年10月26日 |
658 件中 106-120 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4809600 4809545 4809715 4813031 4801785 4801346 4801407 4799176 4801249 4801440 4801790 4801432 4801600 4801429 4801289
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社半導体エネルギー研究所の知財の動向チェックに便利です。
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
〒130-0022 東京都墨田区江東橋4-24-5 協新ビル402 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
【名古屋オフィス】 〒462-0002愛知県名古屋市中区丸の内2-10-30インテリジェント林ビル2階 【可児オフィス】 〒509-0203岐阜県可児市下恵土 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ABCビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング