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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第93位 464件
(2010年:第158位 315件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第53位 577件
(2010年:第129位 243件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-35347 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35299 | 集積回路装置 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35229 | 半導体装置及びその製造方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35217 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35121 | 半導体装置 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35095 | 半導体装置及びその製造方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35063 | ウェーハ端面の洗浄方法及び装置、並びに洗浄液供給装置 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35036 | スクライブコーナモニタ、半導体ウェーハ及びモニタ方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-34987 | ヒューズプログラム回路のヒューズ再切断方法及びヒューズプログラム回路 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-36102 | 制御回路、およびDC−DCコンバータシステム | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35948 | DC−DCコンバータ、制御回路及び電源電圧制御方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35944 | アナログデジタル変換器 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35826 | 半導体装置およびデータ転送方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-29505 | 研磨終点検出方法及び半導体製造装置 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29554 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 2月10日 |
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2011-35347 2011-35299 2011-35229 2011-35217 2011-35121 2011-35095 2011-35063 2011-35036 2011-34987 2011-36102 2011-35948 2011-35944 2011-35826 2011-29505 2011-29554
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2月25日(火) -
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2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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3月4日(火) -
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3月5日(水) -
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3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
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3月7日(金) - 東京 港区
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