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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件 (2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件 (2010年:第158位 203件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-86645 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-82230 | 基板塗布装置 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82439 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-77245 | 基板処理装置およびティーチング方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-75742 | パターン描画装置および光源 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-75635 | パターン描画装置およびパターン描画方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77137 | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77136 | 基板処理システム及びその制御方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77153 | 二流体ノズルおよびそれを備えた基板処理装置 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77289 | 基板位置決め方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77147 | 熱処理装置 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77146 | 基板処理装置 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77145 | 基板処理装置 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77143 | 熱処理装置 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77134 | 基板処理装置及びこれを備えた基板処理システム | 2011年 4月14日 |
230 件中 136-150 件を表示
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2011-86645 2011-82230 2011-82439 2011-77245 2011-75742 2011-75635 2011-77137 2011-77136 2011-77153 2011-77289 2011-77147 2011-77146 2011-77145 2011-77143 2011-77134
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