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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第180位 254件 (2011年:第189位 230件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第181位 217件 (2011年:第194位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-198313 | 描画データの補正装置および描画装置 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-198372 | 描画装置および描画方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199408 | 基板処理装置 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199302 | 基板収容器 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-196851 | インクジェットプリンタおよびドット間隔調整方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199328 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199327 | 基板処理装置 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199304 | 基板処理装置 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199407 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-195521 | 膜形成方法および半導体装置の製造方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195061 | 活物質層形成装置、活物質層形成方法及び電池製造方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195342 | 基板の熱処理装置 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-195446 | 基板処理装置および電源管理方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-192504 | 基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板搬送方法 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-191094 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2012年10月 4日 |
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2012-198313 2012-198372 2012-199408 2012-199302 2012-196851 2012-199328 2012-199327 2012-199304 2012-199407 2012-195521 2012-195061 2012-195342 2012-195446 2012-192504 2012-191094
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