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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第180位 254件 (2011年:第189位 230件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第181位 217件 (2011年:第194位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-191110 | 熱処理装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-191103 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-191102 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-191095 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-191094 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-181165 | 結晶化指数取得装置および結晶化指数取得方法 | 2012年 9月20日 | 共同出願 |
特開 2012-181166 | 膜形状取得装置および膜形状取得方法 | 2012年 9月20日 | 共同出願 |
特開 2012-179540 | 塗布装置および塗布膜形成システム | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182371 | 基板処理装置 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182517 | コンテンツ配信システム、サーバ機器、クライアント機器、並びにコンテンツ配信システムの位置情報表示方法、およびサーバ機器のプログラム、クライアント機器のプログラム | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182320 | ノズル、基板処理装置、および基板処理方法 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-178512 | 基板処理装置 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-178480 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-178424 | エッチング液濃度管理装置 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-175036 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2012年 9月10日 |
254 件中 91-105 件を表示
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2012-191110 2012-191103 2012-191102 2012-191095 2012-191094 2012-181165 2012-181166 2012-179540 2012-182371 2012-182517 2012-182320 2012-178512 2012-178480 2012-178424 2012-175036
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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